2006, 28(8): 1530-1532.
刊出日期：2006-08-19
Whitenoise是由BSB Utilities公司提出的一个序列密码算法。Wu在2003年8月巧妙地给出了破译Whitenoise算法的一个解方程组方法。该文对Wu的破译算法进行了深入分析, 证明了Wu方法的两个基本假设是错误的, 因而Wu的方法不可能求出正确密钥。此外, 该文还对Wu的破译方法进行了改进, 给出了求解Whitenoise密码的秘密整数和秘密素数的方法, 并给出了对Whitenoise密码的一个预测攻击方法, 利用该方法可由其前80445个乱数求出其任一时刻的乱数。此外, 该文还给出了求出其全部秘密要素的一个思路。
1991, 13(1): 57-64.
刊出日期：1991-01-19
本文分析了扩散型或漂移型或具有电荷放大效应的光阴极的量子效率。提出了具有内场或外场的-Si∶H光电发射模型。其结构是p-i-n -Si∶H/Bi2S3或SnO2--Si∶H-Al∶Cs∶O。估算了它们的量子效率和积分灵敏度。二者的量子效率为1-10,灵敏度为103-105A/lm。外场模型的实验表明,结构设计是正确的。
1988, 10(5): 474-480.
刊出日期：1988-09-19
本文研究了大通量辐照(1018n/cm2)的NTD CZ在750-1200℃范围内退火的行为。发现在该温度区间内会产生高浓度的中照施主,最高可达到1016cm-3。只有在高于1100℃退火才能获得准确的目标电阻率.探讨了大通量辐照NTD CZ Si的退火工艺,中照施主的形成及其消除条件。
1985, 7(2): 108-113.
刊出日期：1985-03-19
测量夹心结构-Si∶H膜的瞬态响应谱时,发现无论是在低的正向偏压还是在低的反向偏压下,起始部分都出现不正常的尖形脉冲,它的幅度随光波长的增长而减小。零场瞬态谱的研究表明,这种不正常的非传输部分来源于结区,它的升降特点决定于光照时的空间电荷限制光电流。从光电流幅值与光吸收系数的关系式,我们发展了一种确定光学隙的方法。
1999, 21(5): 686-691.
刊出日期：1999-09-19
关键词:
非晶硅; 电荷放大效应; 光电灵敏度法
测量了缝电极和梳形电极a-Si:H样品的光伏安特性和光电灵敏度,提出了由光电灵敏度计算电荷放大增益的方法。由此法测出的a-Si:H的电荷放大增益,在105V/cm电场下,高达4.3103。本文从能态图讨论了a-Si:H中电荷放大效应的产生过程。由测量的增益值计算了电子迁移率与寿命之积。
1985, 7(3): 238-240.
刊出日期：1985-05-19
正 (一)引言 除金(Au)以外,作者们还曾详细地介绍过稀有金属钯(Pd)、钆(Gd)、铑(Rh)等在si/SiO2界面呈现的类似的负电效应。并且讨论过该效应的普遍性及其改善器件表面性质的可能性。近来我们在实验中,又观察到镧(La)也是具有负电效应的杂质,同样能引起MOS结构C-V曲线,包括高频和准静态曲线,沿正栅压方向明显移动。本文介绍的是掺La界面电特性的主要结果。 (二)实验 MOS样品是在电阻率为812cm的111P型Si单晶片上制成的。Si片是经研磨、SiO2胶体抛光和化学抛光制成的,厚度约为300m。在1150℃下HC1和干氧的混合气流中氧化30min,使Si片表面生成厚度约为1200的SiO2薄膜。去除Si片背面的SiO2后,在干氮下,从背面扩入La,进而在不同条件(温度、时间、气氛等)下,对
1987, 9(5): 420-427.
刊出日期：1987-09-19
以反射高能电子衍射的方法研究了用Ar+离子轰击和高温处理技术获得的洁净的Si(100)和(111)面,以及在室温下这些表面上分子束外延生长镍硅化物。实验获得了Si(111)77以及它的负区衍射图,Si(100)21,Si(111)1919Ni和Si(100)42Ni的表面结构。实验同时表明,在低外延生长速率下(0.150.5/min)生成的镍硅化物的晶格结构与硅基底的一样。
1993, 15(5): 487-492.
刊出日期：1993-09-19
用差分SPV法测量a-Si:H材料的少子扩散长度,可以消除被测样品背面结的影响.本文讨论了这种测量方法的数学模型,导出了测量公式,分析了影响测量结果的各种因素.
1989, 11(6): 656-660.
刊出日期：1989-11-19
将PECVD方法制备的多层a-Si∶H/a-SiNx∶H膜在N2气氛中进行不同温度的退火处理后,利用红外吸收谱、核反应方法,次级离子质谱(SIMS)和透射电镜(TEM)对膜中氢从表面渗出及其与温度的依赖关系进行了测试和分析。最后对氢的外扩散现象提出了几种可能的简单解释。
1991, 13(2): 169-176.
刊出日期：1991-03-19
用动态系统测量了-Si∶H靶电压对光谱响应的影响,发现对短波响应影响较大。推导了靶光电流is和饱和电压Vs的计算公式,发现Vs[(p,p)-1,2]。从测量的Vs值,计算了pp值。发现它随入照光波长的缩短而减小。估算了对单色光和对白光的最佳靶厚。
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