1986, 8(3): 204-208.
摘要:
本文提出了一种新的多能量离子注入的计算方法等效面积法。应用这一方法可按器件的特殊要求,任意设计各种浓度分布。 本文应用这一方法,设计和计算了具有矩形杂质分布的Si-RAPD器件,具有低一高一低特殊分布的Si-RAPD和具有马头型结构的 GaAs M-ESPET器件,IMPATT器件,均得到了较为满意的结果。还对用这一方法设计新型器件的前景作了预测,最后把本文的计算结果与本纳德(R.H.Benhard)(1977)的实测值作了比较,结果是令人满意的。