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物体界面的光化学清洁方法

谈凯声

谈凯声. 物体界面的光化学清洁方法[J]. 电子与信息学报, 1991, 13(6): 659-662.
引用本文: 谈凯声. 物体界面的光化学清洁方法[J]. 电子与信息学报, 1991, 13(6): 659-662.
Tan Kaisheng. PHOTOCHEMICAL CLEANING METHOD FOR THE INTERFACE[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1991, 13(6): 659-662.
Citation: Tan Kaisheng. PHOTOCHEMICAL CLEANING METHOD FOR THE INTERFACE[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1991, 13(6): 659-662.

物体界面的光化学清洁方法

PHOTOCHEMICAL CLEANING METHOD FOR THE INTERFACE

  • 摘要: 本文介绍了一种应用光化学方法清除粘附在物体界面上的有机化合物的实验;给出了它的工作机理,实验方法以及俄歇电子能谱分析结果。实验结果表明,应用紫外光/臭氧不仅能够彻底地清除粘附在物体表面上的碳和碳氢化合物,同样可能彻底地清除粘附在物体界面上的污染物。
  • J. A. McKintock et al., J. Vac. Sci.Techn., 20(1982), 241-242.[2]谈凯声,李建平,电子科学学刊,8(1986),155-158.[3]J. R. Vig et al., Surface Studies for Quartz Resonators, in Proc. 28th Annu. Symp. on Frequency Control; U. S. Army Electronics Command Ft. Monmouth. N. J., AD 011113, (1974), pp. 96-108.[4]R. D. Peter, Ceramic flatpack enclosures for precision crystal units, in Proc. of the 30th Anon. Symp. on Frequency Control, (1976), pp. 224-231.[5]谈凯声,李建平,真空科学与技术,6(1986),42-50.[6]谈凯声,祈宜芝,半导体学报,10(1989),236-240.[7]谈凯声,半导体学报,11(1990),301-304.[8]R. R. Sowell et al., J. Vac. Sci. Techn, 11(1974), 474-475.[9]V. N. Filimonov, Investigation of Sensitized Photooxidation of adsorbed Spectroscopy, in Elementary Phato-[10]processes in Molecules (B. S. Neporent, ed.), Consultants Bureau, New York, (1968), pp. 248-259.
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出版历程
  • 收稿日期:  1990-06-07
  • 修回日期:  1991-02-25
  • 刊出日期:  1991-11-19

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