高级搜索

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

利用表面技术研究氧化物阴极的进展

卞彭

卞彭. 利用表面技术研究氧化物阴极的进展[J]. 电子与信息学报, 1981, 3(3): 152-159.
引用本文: 卞彭. 利用表面技术研究氧化物阴极的进展[J]. 电子与信息学报, 1981, 3(3): 152-159.
Bian Peng. RECENT PROGRESS IN STUDIES ON OXIDE CATHODES USING SURFACE TECHNIQUES[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1981, 3(3): 152-159.
Citation: Bian Peng. RECENT PROGRESS IN STUDIES ON OXIDE CATHODES USING SURFACE TECHNIQUES[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1981, 3(3): 152-159.

利用表面技术研究氧化物阴极的进展

RECENT PROGRESS IN STUDIES ON OXIDE CATHODES USING SURFACE TECHNIQUES

  • 摘要: 本文评论了近年来用表面技术对氧化物阴极的研究。
      关键词:
    •  
  • 卞彭,电子学通讯,1977年,第3-4期,第30页.[4]H. Shelton, Phys. Rev., 107(1957), 522.[5]G. A. Haas, A. Shih and R. E. Thomas, J. A. P., 47(1976). 5400.[6]G. A. Haas, A. Shih and R. E. Thomas, Applications Surf. Sci., 1(1977), 59.[7]R. E. Thomas, et al., Applications Surf. Sci.,2(1979). 187.[9]P. Zalm and A. J. A. Vanstratum, Philips Tech. Rev., 27(1966), 69.[10]S. F. Kaisel, Microwave Jour., 20(1977), 23.[11]G. A. Haas, et al., App. Surf. Sci., 2(1979), 293.[12]A. Shih and G. A. Haas. App. Surf. Sci., 2(1979), 164.[14]C. G. Pantano Jr. and T. N. Wittberg, App. Surf. Sci., 4(1980),385.
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  1556
  • HTML全文浏览量:  131
  • PDF下载量:  373
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  1980-12-16
  • 刊出日期:  1981-07-19

目录

    /

    返回文章
    返回