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利用表面技术研究氧化物阴极的进展

卞彭

卞彭. 利用表面技术研究氧化物阴极的进展[J]. 电子与信息学报, 1981, 3(3): 152-159.
引用本文: 卞彭. 利用表面技术研究氧化物阴极的进展[J]. 电子与信息学报, 1981, 3(3): 152-159.
Bian Peng. RECENT PROGRESS IN STUDIES ON OXIDE CATHODES USING SURFACE TECHNIQUES[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1981, 3(3): 152-159.
Citation: Bian Peng. RECENT PROGRESS IN STUDIES ON OXIDE CATHODES USING SURFACE TECHNIQUES[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1981, 3(3): 152-159.

利用表面技术研究氧化物阴极的进展

RECENT PROGRESS IN STUDIES ON OXIDE CATHODES USING SURFACE TECHNIQUES

  • 摘要: 本文评论了近年来用表面技术对氧化物阴极的研究。
      关键词:
    •  
  • 卞彭,电子学通讯,1977年,第3-4期,第30页.[4]H. Shelton, Phys. Rev., 107(1957), 522.[5]G. A. Haas, A. Shih and R. E. Thomas, J. A. P., 47(1976). 5400.[6]G. A. Haas, A. Shih and R. E. Thomas, Applications Surf. Sci., 1(1977), 59.[7]R. E. Thomas, et al., Applications Surf. Sci.,2(1979). 187.[9]P. Zalm and A. J. A. Vanstratum, Philips Tech. Rev., 27(1966), 69.[10]S. F. Kaisel, Microwave Jour., 20(1977), 23.[11]G. A. Haas, et al., App. Surf. Sci., 2(1979), 293.[12]A. Shih and G. A. Haas. App. Surf. Sci., 2(1979), 164.[14]C. G. Pantano Jr. and T. N. Wittberg, App. Surf. Sci., 4(1980),385.
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出版历程
  • 收稿日期:  1980-12-16
  • 刊出日期:  1981-07-19

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