IC制造中真实缺陷轮廓模型的比较

姜晓鸿; 郝跃; 许冬岗; 徐国华

IC制造中真实缺陷轮廓模型的比较

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出版历程
- 收稿日期: 1996-12-30
- 修回日期: 1997-08-11
- 刊出日期: 1998-03-19

COMPARISON OF MODELS OF REAL DEFECT OUTLINES IN THE IC MANUFACTURING PROCESS

摘要

摘要: 本文对现有的IC制造中真实缺陷轮廓的建模方法进行了比较,得到了一些有意义的结果。该结果为进行有效的集成电路(IC)成品率预报及故障分析提供了有益的借鉴。
- IC缺陷; IC缺陷模型; IC故障; 局部等效圆形缺陷
Abstract: The approaches to model the real defect outlines in the IC manufacturing process are compared and some useful conclusions are obtained. The results obtained in this paper will be helpful for yield prediction and fault analysis of IC.

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施引文献

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