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计算MOS器件应力的简单方法

黄庆安 童勤义

黄庆安, 童勤义. 计算MOS器件应力的简单方法[J]. 电子与信息学报, 1992, 14(6): 574-578.
引用本文: 黄庆安, 童勤义. 计算MOS器件应力的简单方法[J]. 电子与信息学报, 1992, 14(6): 574-578.
Huang Qinan, Tong Qinyi. A SIMPLE APPROACH TO THE CALCULATION OF THE MECHANICAL STRESS IN SILICON DEVICES[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1992, 14(6): 574-578.
Citation: Huang Qinan, Tong Qinyi. A SIMPLE APPROACH TO THE CALCULATION OF THE MECHANICAL STRESS IN SILICON DEVICES[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1992, 14(6): 574-578.

计算MOS器件应力的简单方法

A SIMPLE APPROACH TO THE CALCULATION OF THE MECHANICAL STRESS IN SILICON DEVICES

  • 摘要: 本文根据SiO2薄膜的边缘力集中近似模型,求出了硅MOS器件中的应力场。计算结果与K.Kobayashi(1990)进行的Raman谱测量结果吻合较好。
  • 童勤义, 超大规模集成物理学导论,电子工业出版社,北京,1988年.[2]A. Bohg et al., Appl. Phys. Lett., 33(1978)6, 895-897.[3]Y. Tamaki et al., J. Electrochem.Soc., 130(1983) 10, 2266-2270.[4]H. Mikoshiba, Solid State Electron., 24(1981)3, 221-225.[5]J. Mitsuhashi, Mechanical stress and hydrogen effects on hot carrier injection, Proc. IEDM, USA, (1986), pp. 386-389.[6]D. J. Chin et al., IEEE Trans. on ED, ED-30(1983)7, 744-749.[7]H. Matsumoto et al., IEEE Trans. on ED, ED-32(1985)2, 132-140.[8]D. B. Kao et al., IEEE Trans. on ED, ED-35(1988)1, 25-37.[9]K. Kobayashi .et al., J. Electrochem. Soc., 137(1990)6, 1987-1989.[10]钱伟长, 叶开源,弹性力学,科学出版社,北京,1956年,第五章.[11]R. Zeyfang, Solid .State Eelctron., 14(1979)9, 1035-1039.[12]I. A. Blech et al., ASME J. Appl. Mech., 48(1981)6, 442-445.[13]H. Booyens et al., J. Appl. Phys., 54(1983)10, 5779-5784.[14]E. P. EerNisse, Appl. Phys. Lett., 35(1979)8, 8-10.[15]E. Anastassaki et al., Solid State Communication, 8(1970)2, 133-135.[16]黄庆安, 童勤义,MOSFET的机械应力模型,第七届全国半导体集成技术与硅材料学术年会,成都,1991年, 第97-98页.
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出版历程
  • 收稿日期:  1991-10-23
  • 修回日期:  1992-03-03
  • 刊出日期:  1992-11-19

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