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短沟DMOS阈值电压模型

李泽宏 张波 李肇基

李泽宏, 张波, 李肇基. 短沟DMOS阈值电压模型[J]. 电子与信息学报, 2005, 27(2): 322-325.
引用本文: 李泽宏, 张波, 李肇基. 短沟DMOS阈值电压模型[J]. 电子与信息学报, 2005, 27(2): 322-325.
Li Ze-hong, Zhang Bo, Li Zhao-ji. A Threshold Voltage Model of the Short Channel DMOS[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 2005, 27(2): 322-325.
Citation: Li Ze-hong, Zhang Bo, Li Zhao-ji. A Threshold Voltage Model of the Short Channel DMOS[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 2005, 27(2): 322-325.

短沟DMOS阈值电压模型

A Threshold Voltage Model of the Short Channel DMOS

  • 摘要: 该文提出了短沟DMOS阈值电压模型。基于沟道区耗尽电荷的二维分布,计算沟道区中耗尽电荷总量,由此给出短沟DMOS阈值电压模型的计算式。该模型的解析解与二维仿真器MEDICI的数值解吻合。分析表明,DMOS沟道长度小于0.80m,就应考虑短沟效应。
  • 李泽宏,李肇基,张波等.非均匀沟道MOS辐照正空间电荷迁移率模型.物理学报,2004,53(2):561-565.[2]李泽宏,张波,李肇基等.DMOS阈值电压二维模型.半导体学报,2004,25(6):715-719.[3]Kasley K L, Oleszek G M, Zigadlo J P. A model for the lateral junction contour of double-diffused Gaussian profiles[J].IEEE Trans. on Electron Devices.1984, 31 (7):1341-[4]Baliga B J. Power Semiconductor Devices. Boston: PWS Publishing Co., 1996:265 - 278.[5]江月明.超级灵巧电源技术进入纳米领域.中国集成电路,2003,3(6):56-59.[6]Maneesha, Subhasis Haldar, Manoj K. Khanna. Analytical theory of two-dimensional charge sheet model for short channel MOSFETs under non-linear charge control. Solid State Electronics, 1995, 38(11): 197- 185.[7]Chang-Hoon Choi, Chidambaram P R, Khamankar R, Machala C F, et al.. Dopant profile and gate geometric effects on polysilicon gate depletion in scaled MOS, IEEE Trans[J].on Electron Devices.2002, 49(7):1227-[8]AVANT. Medici 4.1 Users Manual, 1994.
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出版历程
  • 收稿日期:  2003-09-24
  • 修回日期:  2004-05-28
  • 刊出日期:  2005-02-19

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