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TEM分析用的半导体横截面样品的制备和分析的结果

范荣团

范荣团. TEM分析用的半导体横截面样品的制备和分析的结果[J]. 电子与信息学报, 1990, 12(6): 656-659.
引用本文: 范荣团. TEM分析用的半导体横截面样品的制备和分析的结果[J]. 电子与信息学报, 1990, 12(6): 656-659.
Fan Rongtuan. PREPARATION OF CROSS-SECTIONAL SPECIMEN OF SEMICONDUCTOR FOR TEM AND ANALYTICRESULTS[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1990, 12(6): 656-659.
Citation: Fan Rongtuan. PREPARATION OF CROSS-SECTIONAL SPECIMEN OF SEMICONDUCTOR FOR TEM AND ANALYTICRESULTS[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1990, 12(6): 656-659.

TEM分析用的半导体横截面样品的制备和分析的结果

PREPARATION OF CROSS-SECTIONAL SPECIMEN OF SEMICONDUCTOR FOR TEM AND ANALYTICRESULTS

  • 摘要: 本文介绍了透射式电子显微镜(TEM)用的横截面样品的制作技术。利用这一技术制出的样品,用TEM观察到了GaAs/AlGaAs超晶格结构中周期性的精细成分调制的新现象。在金属有机化合物汽相沉积(MOCVD)生长的GaAs/si材料中还观察到一些新形状的位错、微孪晶等。这一种制样技术也适用于其他半导体材料系统的研究。
  • 范荣团,电子科学学刊,12(1990)1,93-99.[2]褚一鸣,姜彤弼,范荣团,电子显微学报,7(1988)3,178.[3]范荣团,MBE,MOCVD外延生长的GaAs/Si中微孪晶,第三届全国材料科学中电子显微学会议论文集,1989年,11月,四川乐山,第56-58页.[4]D. J. Eagesham, et al., Defects in MBE and MOCVD Grown GaAs on Si Inst. Phys. Conf. Ser. No.87,1987, 105-110.
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出版历程
  • 收稿日期:  1988-12-22
  • 修回日期:  1990-07-19
  • 刊出日期:  1990-11-19

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