高级搜索

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

TEM分析用的半导体横截面样品的制备和分析的结果

范荣团

范荣团. TEM分析用的半导体横截面样品的制备和分析的结果[J]. 电子与信息学报, 1990, 12(6): 656-659.
引用本文: 范荣团. TEM分析用的半导体横截面样品的制备和分析的结果[J]. 电子与信息学报, 1990, 12(6): 656-659.
Fan Rongtuan. PREPARATION OF CROSS-SECTIONAL SPECIMEN OF SEMICONDUCTOR FOR TEM AND ANALYTICRESULTS[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1990, 12(6): 656-659.
Citation: Fan Rongtuan. PREPARATION OF CROSS-SECTIONAL SPECIMEN OF SEMICONDUCTOR FOR TEM AND ANALYTICRESULTS[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1990, 12(6): 656-659.

TEM分析用的半导体横截面样品的制备和分析的结果

PREPARATION OF CROSS-SECTIONAL SPECIMEN OF SEMICONDUCTOR FOR TEM AND ANALYTICRESULTS

  • 摘要: 本文介绍了透射式电子显微镜(TEM)用的横截面样品的制作技术。利用这一技术制出的样品,用TEM观察到了GaAs/AlGaAs超晶格结构中周期性的精细成分调制的新现象。在金属有机化合物汽相沉积(MOCVD)生长的GaAs/si材料中还观察到一些新形状的位错、微孪晶等。这一种制样技术也适用于其他半导体材料系统的研究。
  • 范荣团,电子科学学刊,12(1990)1,93-99.[2]褚一鸣,姜彤弼,范荣团,电子显微学报,7(1988)3,178.[3]范荣团,MBE,MOCVD外延生长的GaAs/Si中微孪晶,第三届全国材料科学中电子显微学会议论文集,1989年,11月,四川乐山,第56-58页.[4]D. J. Eagesham, et al., Defects in MBE and MOCVD Grown GaAs on Si Inst. Phys. Conf. Ser. No.87,1987, 105-110.
  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  3561
  • HTML全文浏览量:  241
  • PDF下载量:  984
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  1988-12-22
  • 修回日期:  1990-07-19
  • 刊出日期:  1990-11-19

目录

    /

    返回文章
    返回