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氧离子和氮离子共注人硅形成绝缘埋层的微观结构及其光学性质

俞跃辉 林成鲁 朱文化 邹世昌 卢江

俞跃辉, 林成鲁, 朱文化, 邹世昌, 卢江. 氧离子和氮离子共注人硅形成绝缘埋层的微观结构及其光学性质[J]. 电子与信息学报, 1991, 13(5): 489-495.
引用本文: 俞跃辉, 林成鲁, 朱文化, 邹世昌, 卢江. 氧离子和氮离子共注人硅形成绝缘埋层的微观结构及其光学性质[J]. 电子与信息学报, 1991, 13(5): 489-495.
Yu Yuehui, Lin Chenglu, Zhu Wenhua, Zou Shichang, Lu Jiang. OPTICAL EFFECTS AND MICROSTRUCTURE OF BURIED INSULATION LAYER FORMED BY O~+ AND N~+ CO-IMPLANTATION[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1991, 13(5): 489-495.
Citation: Yu Yuehui, Lin Chenglu, Zhu Wenhua, Zou Shichang, Lu Jiang. OPTICAL EFFECTS AND MICROSTRUCTURE OF BURIED INSULATION LAYER FORMED BY O~+ AND N~+ CO-IMPLANTATION[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1991, 13(5): 489-495.

氧离子和氮离子共注人硅形成绝缘埋层的微观结构及其光学性质

OPTICAL EFFECTS AND MICROSTRUCTURE OF BURIED INSULATION LAYER FORMED BY O~+ AND N~+ CO-IMPLANTATION

  • 摘要: 本文利用俄歇能谱和红外吸收谱研究了硅中O+(200keV,1.81018/cm2)和N+(180keV,41017/cm2)共注入、并经1200℃、2h退火后所形成的绝缘埋层的微观结构及其光学性质。结果表明:O+和N+共注入所形成的绝缘埋层是由SiO2相和不饱和氧化硅态组成;在氧化硅埋层的两侧形成氮氧化硅薄层;表面硅-埋层的界面和埋层-体硅的界面的化学结构无明显差异。通过对波数范围在5000--1700cm-1的红外反射谱的计算机模拟,得到了该绝缘埋层的折射率、厚度等有关的参数值,这些结果与离子背散射谱的分析结果相一致。本文还讨论了绝缘埋层的形成特征。
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出版历程
  • 收稿日期:  1990-06-04
  • 修回日期:  1990-09-19
  • 刊出日期:  1991-09-19

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