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微波气体击穿过程的模拟计算

祝大军 刘盛纲

祝大军, 刘盛纲. 微波气体击穿过程的模拟计算[J]. 电子与信息学报, 1997, 19(2): 258-262.
引用本文: 祝大军, 刘盛纲. 微波气体击穿过程的模拟计算[J]. 电子与信息学报, 1997, 19(2): 258-262.
Zhu Dajun, Liu Sbenggang. THE SIMULATION FOR MICROWAVE PLASMA BREAKDOWN PROCESS[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1997, 19(2): 258-262.
Citation: Zhu Dajun, Liu Sbenggang. THE SIMULATION FOR MICROWAVE PLASMA BREAKDOWN PROCESS[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1997, 19(2): 258-262.

微波气体击穿过程的模拟计算

THE SIMULATION FOR MICROWAVE PLASMA BREAKDOWN PROCESS

  • 摘要: 本文利用流体模型,将无外加恒定磁场的等离子体当作各项同性的有耗媒质,求得圆柱腔结构中的微波场分布。耦合电子、离子运动的流体方程,对微波等离子体的初始形成过程进行了数值模拟计算。结果表明,在电离的初始阶段,电子、离子密度分布与场分布同步。同时,存在一关键电子密度。超过此密度后,微波场在表面快速衰减,气体电离主要在表面进行。
  • Moisan M, Zakrzewski Z. Plasma sources based on the propagation of electromagnetic surface waves J Phys. D, 1991, 24(7): 1025-1048.[2][2][3]Rakem Z, Leprince P, Marec J. Modelling of a nucrowave discharge created by a standing surface wave[J].J Phys. D.1992, 25(6):953-959[4]Hunermann L, Meyer R, et al. Excitation of an excimer laser with microwave resonator[J].SPIE.1991,1503:134-138[5]Hirch M N, Oskam H J. Gaseous Electronics. Vol. 1. New York: Academic Press, lnc. 1978, Chapter 3: 173-217.
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出版历程
  • 收稿日期:  1995-05-12
  • 修回日期:  1995-12-11
  • 刊出日期:  1997-03-19

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