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电子束泵浦KrF受激准分子激光器

顾之玉 赵仲宏 王绍英 吴承懋 夏能樵 周厚琳

顾之玉, 赵仲宏, 王绍英, 吴承懋, 夏能樵, 周厚琳. 电子束泵浦KrF受激准分子激光器[J]. 电子与信息学报, 1979, 1(1): 7-12.
引用本文: 顾之玉, 赵仲宏, 王绍英, 吴承懋, 夏能樵, 周厚琳. 电子束泵浦KrF受激准分子激光器[J]. 电子与信息学报, 1979, 1(1): 7-12.

电子束泵浦KrF受激准分子激光器

  • 摘要: 本文报道了我国研制的第一台用高能电子束横向泵浦NF3、Kr和Ar混合物的KrF激光器。获得了2484(~3mJ)的激光输出。总工作气压从460托变到2660托均有激光输出。给出了KrF激光谱线、荧光谱线私激光光斑。还介绍了分气压不变时,激光光谱和激光输出功率随总气压变化的关系,中心波长随气压变化的关系,以及在固定气压下变化分气压比时,激光功率和激光光谱变化的情况。测得了中心波长随分气压比位移的实际值。研究了气体混合时间对出光的影响,以及多次泵浦对激光输出的影响。并在输出阈值、输出功率、激光和荧光谱线方面与国外同类型器件进行了比较。
      关键词:
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  • S. K. Searles and G. A. Hart, Appl. Phys. Lett.,27(1975). 243.[2]J. J. Ewing and C. A. Brau, Appl. Phys. Lett., 27(1975), 350.[3]C. A. Brau and J. J. Ewing, Appl. Phys. Lett., 27(1975), 435.[5]G. C. Tisone, A. K. Hays and J. M. Hoffman. Optios Communication, 15(1975). 188.[6]M .L. Bhaumilk. R. S. Bradford. Jr. and F. R. Ault. Appl. Phys. Lett, 28(1978), 23.[7]J. R. Murray and H. T. Powell, Appl. Phys. Lett., 29(1978), 252.[9]J. M. Hoffman, A. K. Hago and G. C. Tisone. Appl. Phys. Lett.,28(1976), 538.[10]顾之玉、赵仲宏、翟宝光、吴承懋, 电子学报,1(1978) 2, 93.
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出版历程
  • 收稿日期:  1978-10-06
  • 刊出日期:  1979-03-19

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