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扫描电子束曝光机复合物镜的研究与设计

夏善红 朱协卿

夏善红, 朱协卿. 扫描电子束曝光机复合物镜的研究与设计[J]. 电子与信息学报, 1991, 13(2): 183-192.
引用本文: 夏善红, 朱协卿. 扫描电子束曝光机复合物镜的研究与设计[J]. 电子与信息学报, 1991, 13(2): 183-192.
Xia Shanhong, Zhu Xieqing. RESEARCH AND DESIGN ON THE COMBINED OBJECTIVE LENSES FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEMS[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1991, 13(2): 183-192.
Citation: Xia Shanhong, Zhu Xieqing. RESEARCH AND DESIGN ON THE COMBINED OBJECTIVE LENSES FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEMS[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1991, 13(2): 183-192.

扫描电子束曝光机复合物镜的研究与设计

RESEARCH AND DESIGN ON THE COMBINED OBJECTIVE LENSES FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEMS

  • 摘要: 在综合研究已有的各种复合物镜(如移动物镜、变轴物镜和摆动物镜等)的基础上,本文对复合物镜的一般理论进行了探讨,推导了普遍化计算公式,并提出新的复合物镜(弯曲物镜)系统。采用解析函数近似表示系统场分布,对弯曲物镜系统象差进行了理论分析,并设计出一个实际系统。数值计算结果给出该系统在55mm2扫描场内,束孔径角5mrad和能散2.5eV下,最大彗差0.005m,横向色差0.001m。
  • H. Ohiwa, et al., Electronics and Communications in Japan, 54-8(1971)12, 44.[2]H. C. Pfeiffer, G.O.Langner, J. Vac. Sci. Technol., 19(1981)4, 1058.[3]Chen Zhongwei, et al., Optik, 64(1983)4, 341.[4]M, A. Sturans, H. C. Pfeiffer, Proc. Microcircuit Engineering,1984, Academic Press,London, P. 107.[5][5][6]Qiao Yizheng, et al.,The Principle of Pendulum Combined Focusing and Deflection System, International Symposium on Electron Optics, Beijing, China, (1986), p. 207.[7]H. C. Chu, E. Munro, Optik, 81(1982)2, 121.
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出版历程
  • 收稿日期:  1989-02-13
  • 修回日期:  1989-04-29
  • 刊出日期:  1991-03-19

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