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多级降压收集极CAD中的二次电子发射模型

黄桃 杨中海 金勇兵 金晓林 胡权 秦钰昆

黄桃, 杨中海, 金勇兵, 金晓林, 胡权, 秦钰昆. 多级降压收集极CAD中的二次电子发射模型[J]. 电子与信息学报, 2008, 30(5): 1247-1250. doi: 10.3724/SP.J.1146.2006.01733
引用本文: 黄桃, 杨中海, 金勇兵, 金晓林, 胡权, 秦钰昆. 多级降压收集极CAD中的二次电子发射模型[J]. 电子与信息学报, 2008, 30(5): 1247-1250. doi: 10.3724/SP.J.1146.2006.01733
Huang Tao, Yang Zhong-ha, Jin Yong-bing, Jin Xiao-lin, Hu Quan, Qin Yu-kun . The Emission Model of Secondary Electron in Multistage Depressed Collector CAD[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 2008, 30(5): 1247-1250. doi: 10.3724/SP.J.1146.2006.01733
Citation: Huang Tao, Yang Zhong-ha, Jin Yong-bing, Jin Xiao-lin, Hu Quan, Qin Yu-kun . The Emission Model of Secondary Electron in Multistage Depressed Collector CAD[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 2008, 30(5): 1247-1250. doi: 10.3724/SP.J.1146.2006.01733

多级降压收集极CAD中的二次电子发射模型

doi: 10.3724/SP.J.1146.2006.01733
基金项目: 

国家部级基金资助课题

The Emission Model of Secondary Electron in Multistage Depressed Collector CAD

  • 摘要: 多级降压收集极被广泛应用于提高微波放大器件效率。多级降压收集极中的二次电子发射对其效率有重要影响。该文探讨了真二次电子、弹性反射电子、非弹性反射电子3种二次电子发射模型,对发射率、发射角度以及能量分布情况进行了深入分析,并对考虑二次电子后的收集极模拟计算收敛条件进行了讨论。上述结果在多级降压收集极CAD软件中得到应用,定量分析了其对多级降压收集极效率的影响。
  • 赵玉清. 电子束离子束技术. 西安: 西安交通大学出版社,2002: 180-183.[2]傅慈海, 杨英杰. 物理电子技术原理. 广州: 华南理工大学出版社, 1991, 第3-第4 章.[3]贺庆, 寇建勇, 孙瑜等. 多级降压收集极中次级电子的研究.真空电子技术, 2004, 1: 25-27.He Q, Kou J Y, and Sun Y, et al.. Study on secondary electronin multistage depressed collector, Vacuum Electronics, 2004, 1:25-27.[4]Vaughan J R M. A new formula for secondary emission yield[J].IEEE Trans. on ED.1989, 36(9):1963-1967[5]Vaughan J R M. Secondary emission formulas. IEEE Trans.on ED, 1993, 40(4): 830.[6]Petillo J, Eppley K, and Panagos D, et al.. The MICHELLEthree-dimensional electron gun and collector modeling tool:theory and design. IEEE Trans. on PS, 2002, 30(3):1238-1264.[7]Valfells A, Singh A, and Kolander M J, et al.. Advancementsin codes for computer aided design of depressed collectors andtracing of backscattered electrons-part 2: improvements inmodeling of the physics of secondary electron emission andbackscattering. IEEE Trans. on PS, 2002, 30(3): 1271-1275.[8]Reimer L. Scanning electron microscopy, physics of imageformation and microanalysis. New York: Springer-Verlag,1985: 135-169.[9]Werner U, Bethge H, and Heydenreich J. An analytic modelof electron backscattering for the energy range of 10-100keV[J].Ultramicroscopy.1982, 8(1):417-428[10]黄桃, 杨中海, 胡权等. TWTCAD多级降压收集极CAD设计与实现. 中国电子学会真空电子学分会第15 届学术年会, 昆明, 2005: 320-323.
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出版历程
  • 收稿日期:  2006-11-09
  • 修回日期:  2007-03-21
  • 刊出日期:  2008-05-19

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