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数字水印中的正交小波基

刘九芬 黄达人 胡军全

刘九芬, 黄达人, 胡军全. 数字水印中的正交小波基[J]. 电子与信息学报, 2003, 25(4): 453-459.
引用本文: 刘九芬, 黄达人, 胡军全. 数字水印中的正交小波基[J]. 电子与信息学报, 2003, 25(4): 453-459.
Liu Jiufen, Huang Daren, Hu Junquan. The orthogonal wavelet bases for digital watermarking[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 2003, 25(4): 453-459.
Citation: Liu Jiufen, Huang Daren, Hu Junquan. The orthogonal wavelet bases for digital watermarking[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 2003, 25(4): 453-459.

数字水印中的正交小波基

The orthogonal wavelet bases for digital watermarking

  • 摘要: 该文主要研究了水印算法中小波基的选择和正交小波基的性质与水印稳健性的关系。研究结果表明:正交小波基的正则性、消失矩阶数、支撑长度以及小波图像能量在低频带的集中程度对水印稳健性的影响极小。同时也得到了一个有意义的结论:Haar小波比较适合应用于图像水印。该文还研究了在水印算法中,小波变换级数和嵌入公式的选取及其它一些问题。
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出版历程
  • 收稿日期:  2001-10-22
  • 修回日期:  2002-07-10
  • 刊出日期:  2003-04-19

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