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硅中铜的深能级研究

陈开茅 王忠安

陈开茅, 王忠安. 硅中铜的深能级研究[J]. 电子与信息学报, 1987, 9(3): 256-263.
引用本文: 陈开茅, 王忠安. 硅中铜的深能级研究[J]. 电子与信息学报, 1987, 9(3): 256-263.
Chen Kaimao, Wang Zhongan. DEEP LEVELS RELATED TO COPPER IN SILICON[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1987, 9(3): 256-263.
Citation: Chen Kaimao, Wang Zhongan. DEEP LEVELS RELATED TO COPPER IN SILICON[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1987, 9(3): 256-263.

硅中铜的深能级研究

DEEP LEVELS RELATED TO COPPER IN SILICON

  • 摘要: 本文用DLTS法测量了直拉硅和区熔硅中与铜有关的深能级及其俘获截面,测量了其中部分能级的空间分布,研究了区熔硅中与铜有关深能级的退火特性。结果表明在硅中与铜有关的深能级中不存在文献报道过的代位铜的三个受主态或一个施工和三个受主态,其中的多数能级是铜和晶格缺陷的络合物。
      关键词:
    •  
  • R. N. Hall and J. H. Racette, J. Appl. Phys., 35(1964), 379.[2]J. W. Chen and A. G. Milnes, Ann. Rev. Mater. Sci., 10(1980), 157.[3]A. M. Salma, J. Electrochem. Soc., 126(1979), 114.[4]C. S. Fuller and J. C. Severins, Phys. Rev., 96(1954), 21.[5]C. J. Gallagher, J. Phys. Chem. Solids, 3(1957), 82.[6]C. B. Collins and R. O. Carlson, Phys. Rev., 108(1957), 1409.[7]T. Nakano and Y. Inuishi, J. Phys. Soc. Jpn, 19(1964), 851.[8]A. G. Milnes, Deep Impurities in Semiconductors, p. 14, Wiley, New York, (1973).[9]A. A. Lebedev and M. M. Akhmedova, Sov. Phys. Semicond., 10(1976), 1130.[10]M. M. Akhmedova, L. S. Berman, L. S. Kostina and A. A. Lebedev, ibid., 10(1976), 140.[11]N. Toyama, Solid State Electron., 26(1983), 37.[12]L. C. Kimerling, J. L. Benton and J. J. Rubin, Defects and Radiation Effects in Semiconductors, 59(1980),217.[13]陈开茅,秦国刚,半导体学报,7(1986)., 298.[14]秦国刚等,半导体学报,2(1981)5, 169.[15]E. R. Weber, Appl. Phys. A, 30(1983), 1.[16]G. W. Ludwig and H. H. Woodburg, Solid State Phys., 13(1962),223.[17]W. C. Dash, Phys. Rev., 98(1955), 1536.[18]Y. Chikaura and K. Kishimoto, Jpn. J. Appl. Phys., 19(1980), L5.
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出版历程
  • 收稿日期:  1985-05-13
  • 修回日期:  1985-07-30
  • 刊出日期:  1987-05-19

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