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耗尽型选择性掺杂异质结晶体管

陈定钦 张晓玲 熊思强 高翠华 周帆

陈定钦, 张晓玲, 熊思强, 高翠华, 周帆. 耗尽型选择性掺杂异质结晶体管[J]. 电子与信息学报, 1990, 12(1): 100-102.
引用本文: 陈定钦, 张晓玲, 熊思强, 高翠华, 周帆. 耗尽型选择性掺杂异质结晶体管[J]. 电子与信息学报, 1990, 12(1): 100-102.
Chen Dingqin, Zhang Xiaoling, Xiong Siqiang, Gao Cuihua, Zhou Fan. DEPLETION MODE SELECTIVE DOPED HETEROJUNCTION TRANSISTOR[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1990, 12(1): 100-102.
Citation: Chen Dingqin, Zhang Xiaoling, Xiong Siqiang, Gao Cuihua, Zhou Fan. DEPLETION MODE SELECTIVE DOPED HETEROJUNCTION TRANSISTOR[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1990, 12(1): 100-102.

耗尽型选择性掺杂异质结晶体管

DEPLETION MODE SELECTIVE DOPED HETEROJUNCTION TRANSISTOR

  • 摘要: 设计和研制了耗尽型选择性掺杂异质结晶体管。外延选择性掺杂材料是由本所Fs-Ⅲ型分子束外延炉生长的。制作器件的材料在室温下,霍尔测量的电子迁移率为6500cm2/vs,二维薄层电子浓度ns=91011cm2。在77K时n=75000cm2/vs。测量了具有栅长1.21.5m,栅宽2180m耗尽型异质结器件的直流特性和器件的跨导,室温下gm=110~130ms/mm,而低温77K时,可达到200ms/mm。
  • Paul M. Solomon, Hadis Morkoc, IEEE Trans. on ED, ED-31(1984)8, 1015.
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出版历程
  • 收稿日期:  1988-01-24
  • 修回日期:  1989-08-21
  • 刊出日期:  1990-01-19

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