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电磁聚焦移象系统中静电聚焦场的逆设计

倪国强 周立伟 金伟其 方二伦

倪国强, 周立伟, 金伟其, 方二伦. 电磁聚焦移象系统中静电聚焦场的逆设计[J]. 电子与信息学报, 1989, 11(3): 236-243.
引用本文: 倪国强, 周立伟, 金伟其, 方二伦. 电磁聚焦移象系统中静电聚焦场的逆设计[J]. 电子与信息学报, 1989, 11(3): 236-243.
Li Guoqiang, Zhou Liwei, Jin Weiqi, Fang Erlun. AN INVERSE DESIGN OF ELECTROSTATIC FOCUSING FIELD FOR ELECTROSTATIC AND MAGNETIC IMAGING[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1989, 11(3): 236-243.
Citation: Li Guoqiang, Zhou Liwei, Jin Weiqi, Fang Erlun. AN INVERSE DESIGN OF ELECTROSTATIC FOCUSING FIELD FOR ELECTROSTATIC AND MAGNETIC IMAGING[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1989, 11(3): 236-243.

电磁聚焦移象系统中静电聚焦场的逆设计

AN INVERSE DESIGN OF ELECTROSTATIC FOCUSING FIELD FOR ELECTROSTATIC AND MAGNETIC IMAGING

  • 摘要: 本文对电磁聚焦移象系统中静电聚焦场的逆设计进行了研究,利用多电极系统静电场的电位迭加原理,建立了数学模型,用最优化方法对系统的静电聚焦场进行了设计计算。
  • 周立伟,北京工业学院学报,1983年,第3期,第12-24页.[2]Zhou Liwei, Ni Guoqiang, Fang Erlun, Electrostatic and Magnetic Imaging without Image Rotation, Electron Optical Systems, SEM. Inc., 1984, pp. 37-43.[3]周立伟,倪国强,方二伦,电子学报,1984年,第3期,第33-44页.[4]Zhou Liwei, Qiu Baicang, Ni Guoqiang, 将发表于Optik 78(1988)2, 54-58.[5]W. Glaser, Z. Phys., 116 (1946), 19-33.[6]K. Siegbahn, Phil. Mag., 37 (1946), 162-184.[7]Г.А.Гринберг Избранные Вопросы Математической Теорин Элеских и Магмитных Явлений Изд.АН.СССР.,1948,рр.507-535.[8]周立伟,潘顺臣,艾克聪,北京工业学院学报,1983年,第1期,第1-18页.[9]P. W. Hawkes, Optik, 38 (1973), 589-591.[10]M. Szilagyi, Optik, 50 (1978), 35-51.[11]M. Szilagyi, Synthesis of Electron Lenses, Electron Optical Systems, SEM. Inc., 1984, pp. 75-84.[12]H. Rose, R. W. Moses, Optik, 37 (1978), 316-336.[13]周立伟,兵工学报,1979年,第1期,第66-79页.[14]О.И.谢曼著,楼格译,电子光学理论基础,高等教育出版社,1958年,第125-127页.[15]周立伟,史万宏等,两电极双曲场作为静电聚焦成象系统的电子光学,第三次全国电子光学学术讨论会,(咸阳),1989年.
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出版历程
  • 收稿日期:  1987-04-29
  • 修回日期:  1988-01-03
  • 刊出日期:  1989-05-19

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