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长脉冲大面积强流电子束源

洪浦

洪浦. 长脉冲大面积强流电子束源[J]. 电子与信息学报, 1981, 3(3): 185-190.
引用本文: 洪浦. 长脉冲大面积强流电子束源[J]. 电子与信息学报, 1981, 3(3): 185-190.
Hong Pu. A LONG PULSE LARGE AREA INTENSE ELECTRONBEAM SOURCE[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1981, 3(3): 185-190.
Citation: Hong Pu. A LONG PULSE LARGE AREA INTENSE ELECTRONBEAM SOURCE[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1981, 3(3): 185-190.

长脉冲大面积强流电子束源

A LONG PULSE LARGE AREA INTENSE ELECTRONBEAM SOURCE

  • 摘要: 本文介绍的长脉冲大面积强流电子束系统是为横向泵浦和控制放电泵浦大能量气体激光而设计和研制的。电子束能量为200250keV,脉宽约为13s,电流密度在0.58A/cm2范围内可调,束截面积约为10010cm2。用这台电子束系统已成功地进行控制放电泵浦XeCl激光,在1.91的激活体积中获得激光能量为1J。今年又用它作为CO2激光的泵浦源,在7.851的体积内初步获得360J的激光能量。
      关键词:
    •  
  • Charles Coson, et al., Appl. Phys. Lett,23(1973), 110; J. C. Hsia, et al., AD-A047684.[2]洪浦,电子学通讯,2(1980), 37.[3]R. K. Parker, et al., J. Appl. Phys., 45(1974),2463.[4]的場幹史.レーザー研究,6(1978), 168.
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出版历程
  • 收稿日期:  1980-02-22
  • 刊出日期:  1981-07-19

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