电子束成象制作图形的新方法探索
A NEW METHOD FOR PATTERN MAKING BY USING ELECTRON BEAN IMAGING IN SiO2 FILM
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摘要: 本文介绍了利用电子束成象在硅衬底上的薄二氧化硅膜中制作图形的一种新方法。所得的电子象,利用聚脂型反应媒介物并通过氢氟酸汽相腐蚀,不仅可以在二氧化硅膜上形成正图形,而且可以形成负图形。
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关键词:
Abstract: A new method for patterns making by using electron beam imaging in SiO2 film on silicon substrate is presented. The electron beam images in SiO2 film can form not only positive patterns but also negative patterns by using HF vapor etching and reactive media. -
T. W. Okeeffe and R. M. Handy, Solid-State Electronics, 11(1968), 261.
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