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高效率硅太阳电池AR-BSF一次成型工艺研究

刘恩科 贾全喜

刘恩科, 贾全喜. 高效率硅太阳电池AR-BSF一次成型工艺研究[J]. 电子与信息学报, 1988, 10(3): 285-288.
引用本文: 刘恩科, 贾全喜. 高效率硅太阳电池AR-BSF一次成型工艺研究[J]. 电子与信息学报, 1988, 10(3): 285-288.
Liu Enke, Jia Quanxi. A STUDY OF SIMULTANEOUS FORMATION OF AR AND BST FOR HIGH EFFICIENCY SILICON SOLAR CELLS[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1988, 10(3): 285-288.
Citation: Liu Enke, Jia Quanxi. A STUDY OF SIMULTANEOUS FORMATION OF AR AND BST FOR HIGH EFFICIENCY SILICON SOLAR CELLS[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1988, 10(3): 285-288.

高效率硅太阳电池AR-BSF一次成型工艺研究

A STUDY OF SIMULTANEOUS FORMATION OF AR AND BST FOR HIGH EFFICIENCY SILICON SOLAR CELLS

  • 摘要: 本文描述一种用LPCVD方法淀积Si3N4形成太阳电池减反射膜(AR)同时又制得高效率硅太阳电池铝合金高低结背面场(BSF)的新工艺。该工艺不仅简化了太阳电池的制作过程,即电池的AR和BSY一次形成,而且由于系统处于高真空,电池处在N2和H2的气氛中,所以改善了太阳电池发射区的表面特性。实验结果表明:为获得较好的电池性能,在完成电池的AR和BSF时,厚的铝膜,较高的淀积Si3N4温度以及在电池发射区表面生长80100的SiO2层是必要的。
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出版历程
  • 收稿日期:  1986-07-21
  • 修回日期:  1988-01-09
  • 刊出日期:  1988-05-19

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