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掺氧化钇钡钨阴极的表面特性研究

苏煦春 方厚民

苏煦春, 方厚民. 掺氧化钇钡钨阴极的表面特性研究[J]. 电子与信息学报, 1990, 12(6): 628-635.
引用本文: 苏煦春, 方厚民. 掺氧化钇钡钨阴极的表面特性研究[J]. 电子与信息学报, 1990, 12(6): 628-635.
Su Xuchun, Fang Houmin. INVESTIGATION OF THE SURFACE CHARACTERISTICS OF A ALUMINATE DISPENSER CATHODE WITH Y2O3[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1990, 12(6): 628-635.
Citation: Su Xuchun, Fang Houmin. INVESTIGATION OF THE SURFACE CHARACTERISTICS OF A ALUMINATE DISPENSER CATHODE WITH Y2O3[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1990, 12(6): 628-635.

掺氧化钇钡钨阴极的表面特性研究

INVESTIGATION OF THE SURFACE CHARACTERISTICS OF A ALUMINATE DISPENSER CATHODE WITH Y2O3

  • 摘要: 以掺氧化钇的钡钨阴极作为研究对象,利用现代表面分析技术,包括发射式电子显徽镜、扫描电子显微镜、俄歇电子谱仪和高分辨率x射线光电子谱仪等,进行了综合研究,获得了阴极发射性能、表面形貌和表面化学等实验结果,并对实验结果进行了讨论。
  • J. Van Esdonr, Methods of Manufacturing a Dispenser Cathode, US patent, 4 625 142, (1986).[2]苏煦春,方厚民,苏翘秀,钪酸盐阴极表面研究的进展,中国真空电子学会第四届年会论文集,上海,1982年,第146页.[3]苏煦春,方厚民,钪酸盐阴极的发射电镜研究,中国真空电子学会第五届年会论文集,咸阳,1984年,第160页.[4]О.К.Култашев,А.П.Макаров,Известия АН СССР Серия Физ., 40 (1976), 2478.[5]方厚民,苏翘秀,苏煦春,真空科学与技术,2(1983),91.[6]G. A. Haas, J. Appl.phys. 46 (1973), 3293; W. V. Lampart, Appl. Surface Sci, 8 (1981), 66.[7]C. R. K. Martian, Appl. Surface Sci., 16 (1983), 1.[8]C. D. Wagner, Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy, (1979), Perkin-Elmer Corp.[9]С.П.Горденко,Редкоземельые Металлы и их Тугоплавкне Соединения,(1971), Металлургоиздат.[10]N. J. A. Van Veen, Appl. Surface Sci., 29 (1987), 113.[11]E. N. Siekfus, Appl. Surface Sci., 2(1979), 213.[12]G. A. Haas, A. Shih, C. R. K. Marrian, Appl. Surface Sci., 24 (1985), 447.[13]苏煦春,方厚民,M (Ir)型阴极的表面特性研究,中国真空电子学会第六届年会论文集,北京1986年,第102页.[14]D. Norman, R.A. Tuck, physical Review Letters, 58 (1987). 519.
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出版历程
  • 收稿日期:  1989-04-01
  • 修回日期:  1990-05-22
  • 刊出日期:  1990-11-19

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