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W[111]尖端场发射电子枪的工作特性

杨德清 陈尔纲

杨德清, 陈尔纲. W[111]尖端场发射电子枪的工作特性[J]. 电子与信息学报, 1992, 14(3): 295-300.
引用本文: 杨德清, 陈尔纲. W[111]尖端场发射电子枪的工作特性[J]. 电子与信息学报, 1992, 14(3): 295-300.
Yang Deqing, Chen Ergang. OPERATING CHARACTERISTICS FOR A FIELD EMISSION GUN WITH W[111] TIP[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1992, 14(3): 295-300.
Citation: Yang Deqing, Chen Ergang. OPERATING CHARACTERISTICS FOR A FIELD EMISSION GUN WITH W[111] TIP[J]. Journal of Electronics & Information Technology, 1992, 14(3): 295-300.

W[111]尖端场发射电子枪的工作特性

OPERATING CHARACTERISTICS FOR A FIELD EMISSION GUN WITH W[111] TIP

  • 摘要: 本文报道了单晶W[111]尖端的制作,以及由W[111]尖端阴极,第一、二阳极组成的三极场发射电子枪(FEG)的工作特性。实验结果表明,这种FEG在枪室真空为510-7Pa,加速电压在30kV的条件下,其虚源半径为1.6nm;亮度为3.8109A/cm2.sterad;场发射电流为1A时,束流稳定性为5%(10min内)。说明它是一种较理想的点状电子源,在实际应用中具有广泛发展前景。
  • A. V. Crewe et al., J. Appl. Phys., 39(1968) 13, 5861-5868.[2]A. V. Crewe et al., Science, 168(1970) 39, 1338-1340.[3]A. Tonomura et al., J. Electron Microscopy, 22(1973) 1, 141-146.[4]G. Bining et al., Appl. Phys. Lett., 40(1982) 2, 178-180.[5]G. Bining et al., Phys. Rev. Lett., 49(1982) 1, 57-61.[6]杨德清等,微细加工技术,1988年,第1期,第30-34页.[7]杨德清等,云南大学学报(自然科学版),10(1988)2,167-171.[8]刘学悫,阴极电子学,科学出版社,北京,1980年,第258页.[9]杨德清等,电子科学学刊,12(1990)6,660-6650.[10]杨德清等,微细加工技术,1991年,第1期,第14-19页.[11]陆家和等,表面分析技术,电子工业出版社,北京,1987年,第98页.[12]唐天同,应用带电粒子光学引论,西安交通大学出版社,西安,1986年,第322-324页.[13]唐天同,应用带电粒子光学引论,西安交通大学出版社,西安,1986年,第317页.[14]C. Wiener et al., J. Appl. Phys.,44(1973)5,2140--2148.
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出版历程
  • 收稿日期:  1991-03-19
  • 修回日期:  1991-07-22
  • 刊出日期:  1992-05-19

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